MOSFET性能改进:RDS(ON)的决定因素

(1)MOSFET器件结构将根据要求的耐受电压来选择。确定导通电阻RDS(ON)的因素如图3-7和方程式3-(1)所示。根据器件的结构,决定导通电阻的因素比例将发生变化。
(2)例如,许多中高压MOSFET(250V及以上)具有平面MOS(π-MOS)结构,而小于200V的产品大多具有沟槽MOS(U-MOS)结构。因此,当耐受电压VDSS=600V时,Rdrift成为主导因素,当耐受电压是30V时,因素Rch的比例较高。

D-MOS的导通电阻决定因素
图3-7(a)D-MOS的导通电阻决定因素

RDS(ON)=RsubRdrift+RJ-FETRch+RN+

沟槽MOS的导通电阻决定因素
图3-7(b)沟槽MOS的导通电阻决定因素

RDS(ON)=RsubRdriftRch+RN+・・・方程式3-(1)

如果是VDSS=600V,顺序为Rdrift >> Rch > RJ-FET,RN+,Rsub和RDS(ON)取决于Rdrift
如果是VDSS=30V,顺序为Rch >> Rdrift > RN+,Rsub。沟槽MOS结构的精细图形化可以最大限度降低RDS(ON)对Rch的依赖性

第Ⅲ章:晶体管

晶体管的类型
双极晶体管(BJT)
内置偏置电阻型晶体管(BRT)
结型场效应晶体管(JFET)
金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
BJT和MOSFET的差异
MOSFET的结构和工作原理
MOSFET性能改进:低RDS(ON)的解决方案
MOSFET性能改进:超级结MOSFET(SJ-MOS)
按结构分类的MOSFET特性摘要
MOSFET的性能:漏极电流和功耗
MOSFET的性能:雪崩能力
MOSFET的性能:电容的特性
MOSFET的性能:安全工作区域(或安全操作区域)
绝缘栅双极晶体管(IGBT)
绝缘栅双极晶体管(IGBT)的工作原理
IGBT的性能改进:垂直设计的发展
什么是RC-IGBT和IEGT?
IGBT的应用
IGBT和MOSFET的正向特性比较
晶体管的结构比较
MOSFET的数据表:最大额定值
MOSFET的数据表:电气特性
MOSFET的数据表:电容和开关特性
MOSFET的数据表:体二极管

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