什么是IGBT?

IGBT(绝缘栅双极型晶体管)是一种功率半导体器件,结合了MOSFET的高输入阻抗特性和双极型晶体管(BJT)的低导通压降特性。它非常适合高电压、高电流应用,广泛应用于从家用电器到工业设备等各类产品中。

基本结构与工作原理
IGBT由输入侧的MOSFET结构和输出侧的双极型晶体管(BJT)结构组成。
当在栅极施加电压时,MOSFET部分导通,从而使集电极与发射极之间产生电流。
图1显示了N沟道IGBT的符号,图2显示了N沟道IGBT的等效电路。
关于IGBT能够承受大电流的原因,以及器件内部载流子的行为(导电调制效应),将在后续章节中进行说明。
有关工作原理的更多信息,请参阅以下常见问题(FAQ):
>IGBT的工作原理是什么?

N沟道IGBT的电路符号由栅极、集电极和发射极端子组成。栅极在电气上是绝缘的,集电极与发射极符号之间的垂直线以示意方式表示由栅极控制形成的电流通道。
图1.IGBT符号(N沟道IGBT)
N沟道IGBT的等效电路由一个N沟道MOSFET和一个PNP型双极晶体管组成,示出了主电流从集电极出发,经由BJT和MOSFET部分,最终流向发射极的电流路径。
图2.IGBT等效电路

图1注:
图1显示了N沟道IGBT的电路符号。栅极以与其他端子线分离的垂直线形式绘制,表明栅极在电气上与其他端子绝缘。与集电极和发射极相关的箭头表示电流的流动方向。绘制在集电极与发射极之间的垂直线以示意方式表示电流通道由MOSFET栅极控制形成,并不代表器件内部的物理沟道结构。

图2注:
图2显示了N沟道IGBT的等效电路。该器件可表示为一个N沟道MOSFET与一个PNP型双极晶体管(BJT)的组合。蓝色实线表示器件导通状态下的主电流路径。外部集电极端子对应于芯片背面的p+层(即PNP型BJT的发射极侧),电流通过MOSFET部分流向发射极。该等效电路示意了IGBT中MOSFET与BJT协同工作的整体运行机制。

MOSFET、BJT与IGBT的比较
IGBT的设计目标是结合MOSFET与BJT的优点,如下所示。

  • MOSFET特性:
    • 高输入阻抗
    • 开关速度快
    • 但在设计为高击穿电压时,导通电阻往往会增大
  • BJT特性:
    • 导通电压低,导电损耗小
    • 但输入阻抗低,开关速度相对较慢 
  • IGBT特性:
    • 高输入阻抗
    • 开关速度低于MOSFET,但仍较快
    • 即使在高击穿电压等级下,也能保持较低的导通电压

基于上述特性,IGBT被广泛应用于空调、冰箱、洗衣机和微波炉等消费类产品,以及电梯、机器人和机床等工业设备中。 

IGBT的结构
IGBT是一种将MOSFET结构与双极型晶体管(BJT)结构相结合的垂直型功率器件。
当栅极电压在MOSFET部分形成沟道时,电流便在集电极与发射极之间流动。
图3显示了N沟道IGBT的整体结构,图4显示了与该结构对应的等效电路。
典型的IGBT结构是一种垂直结构,即在横向MOSFET的漂移区(n−层)下方增加一层p+层,该p+层作为外部集电极。 

图4所示的等效电路由基本器件结构推导而来,该等效电路中包含在简化等效模型中未表示的寄生NPN双极晶体管。这些寄生元件共同形成了一个晶闸管结构。
由此产生的锁存效应将在后续章节中加以说明。
电子通过在漏极侧(芯片表面)附近形成的沟道注入n−层,同时空穴从p+层侧注入,从而形成不同于单极型MOSFET的双极电流通道。
这种垂直层状结构正是IGBT适用于高电压和高电流应用的根本原因。

有关IGBT结构的更多信息,请参阅以下e-learning内容:
>3-18.IGBT的性能改进:垂直设计的发展

有关在发射极与集电极之间集成续流二极管的RC-IGBT(反向导通IGBT)结构,请参阅:
>什么是反向导通IGBT(RC-IGBT)?

N沟道IGBT的结构图,显示了在MOSFET结构下方增加p+层的垂直层状结构,以及与集电极、栅极和发射极端子相对应的各区域布局。
图3.IGBT结构图
由IGBT结构图推导得到的等效电路,为与结构布局相匹配而相较于常规等效电路上下翻转绘制,并包含由器件结构产生的寄生BJT和电阻元件。
图4.基于IGBT芯片结构的等效电路(倒置显示以匹配结构图)

寄生晶闸管结构与锁存效应
如图4所示,IGBT内部存在寄生的NPN型和PNP型晶体管,从而形成了一种晶闸管结构。
如果该寄生晶闸管因发热或异常条件而导通,就可能发生锁存现象,使集电极与发射极之间的通路几乎呈现短路状态,从而导致过流并可能引发器件损坏。
然而,寄生NPN晶体管的基极—发射极电阻(p区电阻)被设计得非常小,这抑制了寄生NPN晶体管的主动导通。因此,现代IGBT在结构设计上已使锁存现象极少发生。

电导率调制
在MOSFET中,提高击穿电压通常会导致导通电阻增大。
电导率调制是IGBT中用于在高电压条件下抑制导通电阻增大的机制。
在IGBT中,大部分集电极电流从PNP型BJT的发射极(即IGBT的集电极)流向其基极。该电流通过漂移区(n−层),经由MOSFET的漏源通道,最终到达IGBT的发射极。这构成了IGBT中的主电流通路。
漂移区的电阻通过电导率调制而降低。电导率调制是pn结二极管和BJT等双极型器件所共有的特性,而不会出现在MOSFET或肖特基势垒二极管(SBD)等单极型器件中。
当IGBT导通时,大量空穴从p+集电极层注入到n−漂移层中。为了维持电荷中性,电子也通过MOSFET沟道从n+层一侧注入。结果是在n−层中,电子和空穴的载流子浓度同时显著增加(高注入状态),从而提高了导电能力。
换言之,电导率调制是指随着电子和空穴数量的增加,n−层电阻降低的现象。
图5显示了电导率调制过程中载流子的行为以及相应的等效电路表示。
在该图中,与外部集电极端子(C)相连的PNP型BJT被表示为一个二极管,而因导电调制而发生变化的漂移区电阻则用可变电阻来表示。

示意图显示了IGBT中电导率调制期间载流子的行为及其等效电路,其中空穴从p+集电极层注入到n−漂移层中,电子从n+发射极层注入,从而提高载流子浓度并降低n−层的电阻。
图5.IGBT电导率调制过程中载流子的行为及其等效电路

拖尾电流
当IGBT从导通状态切换至关断状态时,栅极与发射极被短路或施加反向偏置,从而释放栅极电荷并消除沟道,使MOSFET部分关断。
然而,集电极电流不会立即停止,而是以托尾电流的形式持续一段时间。这种托尾电流的产生是由于在导电调制过程中存储于n−漂移层中的过剩电子和空穴仍然存在,在这些载流子复合并消失之前,电流仍会继续流动。
拖尾电流会影响开关损耗,是电路设计中需要重点考虑的重要因素。

有关更多信息,请参阅以下常见问题(FAQ):
> 电导率调制:什么是电导率调制?
> 拖尾电流:什么是IGBT的拖尾电流?

相关信息

以下文档中也包含相关信息。

参数搜索

IGBT/IEGT

常见问题(FAQ)

*本常见问题(FAQ)中所使用的公司名称、产品名称和服务名称可能分别属于其各自的公司。

在新窗口打开