关于偏置电阻内置晶体管(BRT)的hFE

BRT包含电阻R1和R2,如图2所示。*
BRT的hFE定义不同于典型的双极晶体管,用下列等式表示:

hFE=IC/IB=IC/( Ib+IR2)   ... (1)
IR2=Vbe/R2=0.7**/R2       ...(2)
对于仅包含R1的典型双极晶体管或BRT,IB = Ib。因此,hFE表示为:
hFE=IC/Ib            ... (3)

BRT的hFE与典型双极晶体管的hFE不同之处在于,等式(1)的分母包括IR2.
#1:等式(2)表明IR2与R2成反比。R2值较高的BRT具有较高的hFE。
#2:分母中的Ib与IC成正比,但是IR2是仅取决于R2的一个常数。
因此,由于R2的影响较大,故hFE在低集电极电流区减小。
显然,不带R2的BRT和典型双极晶体管都不具备这种特性。***

*:也可提供不带R2的BRT。

**:Vbe随集电极电流(IC)变化。但是,由于Vbe的变化很小,因此假定其保持恒定(即0.7V)。

***:在较低的集电极电流区域,由于泄漏电流的影响,hFE可能会降低。

图1:比较具有相同串联基极电阻(R1)值和不同基极-发射极电阻(R2)值的BRT
图1:比较具有相同串联基极电阻(R1)值和不同基极-发射极电阻(R2)值的BRT
图2:基本的BRT电路
图2:基本的BRT电路
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