2026年6月12日
东芝电子元件及存储装置株式会社
日本川崎—东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)现已开发出可满足高频逆变器应用需求的碳化硅(SiC)电源模块技术,可实现功率损耗更低、可靠性更高的高频逆变器。该技术将内嵌肖特基势垒二极管(SBD)[1]的东芝专有碳化硅MOSFET[2]与经过优化的模块设计相结合,可在高速开关过程中实现高度可靠的低损耗运行。仿真结果表明,与使用内嵌SBD的传统碳化硅MOSFET结构[3]的模块相比,当高频逆变器在60kHz频率下运行时,逆变器的总功率损耗大约可降低30%。
人工智能的广泛应用以及数据中心的日益复杂化,正迅速增大电力消耗。这类应用的配套电源系统必须具备更高的效率和功率密度,这使得高频率运行的功率半导体的重要性日益凸显。对于必须满足效率和尺寸要求的逆变器和不间断电源(UPS)等电力设备而言,这一趋势尤为明显。在此背景下,1200V级别的SiC电源模块有望在下一代电源系统中发挥核心作用,但这需要进一步改进芯片和模块设计。
东芝现已开发出内嵌SBD的SiC MOSFET,解决了二极管导电过程中与碳化硅材料特性相关的可靠性挑战。然而,传统的器件结构[3]限制了通道和SBD区域的布局,导致难以在低导通电阻[4]和二极管可靠性之间取得平衡。此外,减小电源模块的芯片总面积虽能提高开关速度,但也会产生一些互商性问题,包括导通电阻增大、二极管可靠性降低以及散热性能下降。
新开发的内嵌SBD的SiC MOSFET结构将具有棋盘格图案的SBD布局与深P型势垒区[5]相结合(图1)。利用深P型势垒区的电场抑制[6]效应所实现的更高设计灵活性,可以对通道[7]、漂移层[8]、结型场效应晶体管(JFET)[9]区域以及栅极驱动条件等多个设计参数进行综合优化。因此,该器件抑制了局部电流集中,改善了流经通道和漂移层的电流,并且在导通状态和二极管工作状态下均能实现稳定的电流工作,从而改善了导通电阻与二极管可靠性之间的互商性。在25℃和150℃温度条件下,该器件的比导通电阻分别为1.8mΩ·cm²和2.7mΩ·cm²,与典型器件结构[3]相比降低了约50%,单位面积的SBD电流传导能力[10]提高了约40%。
所开发的器件已应用于1200V级别的SiC 电源模块(图2)。与传统结构[3]相比,模块内的芯片总面积减小了约36%。同时,通过降低导通电阻和提高可靠性,提高了芯片性能,在保持二极管可靠性的同时,降低了模块级导通损耗[11]。此外,通过改进封装结构和设计(包括采用树脂绝缘衬底),东芝将单位面积的热阻降低了约25%。这不仅改善了热扩散,而且即使在因芯片总面积减小而导致热密度增加的情况下,也能保持良好的散热性能。
这些改进证实了开关损耗[12]进一步降低(图3)。仿真结果表明,在60kHz高频运行条件下,逆变器的总功率损耗大约可降低30%(图4)。通过优化开关条件(包括栅极驱动速度),预计开关损耗将进一步降低。结果表明,可在高频功率转换领域实现显著的性能提升。
T该技术有望成为提高功率转换系统(包括数据中心UPS、工业设备以及可再生能源应用)效率和减小体积的关键平台。东芝将持续推进该技术的开发,以实现实际应用和量产,同时进一步提升高频运行能力和性能,从而提高电源系统的能效,为建设可持续发展的社会做出贡献。
东芝于2026年6月9日至11日在德国纽伦堡举办的2026年度国际电力电子系统及功率元器件展览会(PCIM)上向参展者和观众介绍了该技术的详情。
[1]肖特基势垒二极管(SBD):允许电流沿一个方向流动并且会在金属与N型半导体之间形成一个结的一种整流元件。
[2]金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET):具有三个端子(栅极、源极和漏极)并且通过向栅极施加电压来控制漏极与源极之间的电流流动的一种开关器件。
[3]传统结构:参考东芝先前开发的第三代的内嵌SBD的SiC MOSFET。
[4]导通电阻:当MOSFET为导通状态时漏极与源极之间的电阻。
[5]势垒区:在器件内形成的负责控制高压运行工况下的高电场并且会影响电流流动和器件特性的一个区域。
[6]电场抑制:这种效应可降低器件内局部集中的高电场,有助于改善电流分布和提高可靠性。
[7]通道:MOSFET内部工作时有电流流过的一个区域。
[8]漂移层:能够承受高压并有助于实现器件击穿电压的那一层。
[9]结型场效应晶体管(JFET)区域:MOSFET内部构成部分电流传导通路并且会影响电流流动和导通电阻的一个区域。
[10]SBD电流传导能力:内嵌SBD传导电流的能力;这种能力越高,就能在二极管工作期间实现稳定的电流流动。
[11]导通损耗:当电流流过导通状态的器件时发生的功率损耗,主要取决于导通电阻。
[12]开关损耗:当电压和电流在时间上重叠时,开关转换过程中发生的功率损耗。
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